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干法刻蚀工艺与设备技术讲座

发布时间:2012-10-22 点击数:

干法刻蚀工艺与设备技术讲座

Ø主题:干法刻蚀工艺与设备

Ø内容:ICP、RIE、DRIE工艺与设备

Ø对象:感兴趣的研究生

Ø时间:2010-11-10,下午 2:30-4:00

Ø讲座地点:科技园西五楼 A328

Ø现场讲解地点:1楼洁净室

Ø讲座人:王久洪

附件大小

Gan_Fa_Ke_Shi_Jiang_Zuo_Tong_Zhi_.ppt

2.45 MB

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